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M-PEL相关论文
用于T形栅光刻的新型移相掩模技术
根据移相掩模基本原理,通过光刻工艺模拟提出了一种适于T形栅光刻的新型移相掩模技术--M-PEL.初步实验证明,M-pEL技术可在单层厚胶......
期刊
光学光刻
移相掩模
T形栅
M-PEL
photolithography
phase-shift mask
T-shaped gate
M-PEL
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